第293章 B计划失效后的C计划(1/2)

首发：~第293章 B计划失效后的C计划

“元光，我们需要你的帮助，在得到消息之后，我们就加大了从陶氏化学和住友化学的进口，希望在该封锁宣布以前，完成未来三年内所需新型光刻胶的储备。

但很无奈的地方在于，他们那时候拒绝加大出口，实际的停止出口要比预期的更快。”梁孟松满脸愁容，已经74岁高龄的他从去年开始就处于半退休状态。

主要完全退休，他也闲不住。

尤其是在东大芯片飞速发展的今天，一个一生都致力于芯片研发的工程师根本无法忍受这种时刻自己无法亲身参与其中。

因此他只是明面上退居二线，实际上依然大量参与实际工作。

“南大光电、彤程新材、飞凯新材这些厂商你们不也在同步扶持么？

哪怕良品率差一点，他们应该也能赶上吧？”陈元光看着眼前年迈的前辈，以为对方没有想到这一茬，于是提醒道。

不提还好，一提梁孟松两条眉毛都要拧到一起去了：

“别说了，他们以为自己永远没有转正机会，好消息不断，这次住友和陶氏宣布不卖光刻胶给我们之后，我们加大了和这些企业的沟通，让他们无论如何都要提供样品给我们进行测试。

他们提供来的压根没眼看，都不是良品率太差的问题，是压根达不到要求。

元光，你也知道，拓扑半金属是一种和硅基截然不同的新型材料。

用于拓扑半金属刻录的光刻胶除了光敏感性之外，还有需要有析氢和减少二氧化碳的作用。”

这是因为拓扑半金属优异的电子导电性和电荷载流子迁移率，导致了它存在一种叫拓扑电子态的状态，这种状态和光刻胶活性之间存在着密切联系。

一直到今天凝聚态物理学家们都没有搞清楚其中的物理化学反应机制。

住友化学和陶氏化学大概从2013年开始相关研究，发明了相关新型材料。

这类材料如果是用在传统硅基芯片上，效果不好，而且成本还非常高。

但是应用在拓扑半金属上却正好合适。

随着过去几年拓扑半金属的大规模量产，这类材料迭代了一次，把成本降下来了，而且还间接提高了刻录的稳定性和精度。

大家其实内心都很清楚，这类关键材料依赖阿美利肯和霓虹的企业不是长久之计。

陶氏化学是阿美利肯企业，住友化学是霓虹企业。

这两者可以看成是一体的。

一边断开连接，另外一边不可能还能连上。

东大方面过去为了维持平衡，一直同时从两家厂商那进货。

这种策略从商业上来说没问题，避免供应商垄断核心零部件。

但当地缘政治因素出现之后，经济因素可以忽略不计。

住友化学和陶氏化学做出了相同的决定。

而东大方面准备的b计划压根就拿不出手，连抛开成本不谈，仅仅需要它能够派上用场都做不到。

对东大来说，良品率低不是问题，靠技术迭代早晚能赶上。

就跟mate60的双重曝光技术，从良品率和技术前景上都已经被全球芯片生产厂商们一致判了死刑而淘汰掉，对他们来说，不仅要能吃饱还要能吃好。

对华为来说，这可是解渴救命的技术，我得先让自己活下去，至于这项技术是否被淘汰、是否存在必然缺陷，这都不重要。

只是没有想到他们压根就不争气。

“当时不应该反复强调了，他们虽然是备选，但只要他们能做出满足要求的光刻胶，我们就一定会用么？”陈元光表示无法理解。

光刻胶同样是一个巨大的市场，以中芯国际为首的东大芯片生产厂商们天然会优待东大企业。

哪怕东大企业的产品质量不够好。

在陈元光看来，告诉你们金矿就在前方，你们居然不去挖矿？

“这有很多复杂的原因。

阿美利肯和霓虹方面应该从很早开始就在进行筹备。

首先因为陶氏化学和住友化学采取的是两条不同的技术路线，并且已经构建了完善的专利墙。

东大企业想要绕开专利墙，研究出符合要求的新型光刻胶并不容易。”梁孟松解释道。

“我们当时不是说了，不要管专利，仿照他们的技术路线就好了，现在都什么时候了，还管技术是否侵权。

他们不给我们出口光刻胶，我们在国内不认他们的技术专利不就好了？

再说我们也只是基于他们的原理研究出来的光刻胶。

国外的半导体企业不都在研究我们的拓扑半金属合成原理和工艺流程么？

光是传到我耳朵里的刺探事件就不少于三起。他们都不尊重专利，这帮做光刻胶的企业被西方的知识产权保护给洗脑洗傻了吧？”

陈元光确实有点气，因为他们从第一天开始就在为未来断开连接做准备。

几乎上下游所有半导体关键的零部件都有b计划。

每一个b计划都有好几家企业入选。

这些大大小小的b计划企业才是东大敢于拒绝国外无理要求的最大底气。

结果光是光刻胶这一个领域就给你卡死了。

这还怎么玩？

陈元光脑海里天然浮现出这么一句话：当你在房间里发现一只蟑螂的时候，这意味着房间里有一窝蟑螂。